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熔融石英的折射率
熔融石英、光学石英玻璃的折射率(之一) 波长(毫微米) 水晶熔制石英玻璃 合成石英 玻璃 185.41 1.57464 - 193.53 1.56071 - 202.54 1.54729 1.54717 206.20 1.54269 1.54266 213.85 - 1.53434 214.45 1.53385 - 226.50 1.52318 1.52299 232.94 1.51834 - 237.83 - 1.51473 248.20 - 1.50841 250.20 1.50762 - 257.62 1.50397 1.50351 265.36 - 1.49994 274.87 1.49634 - 280.35 - 1.49403 289.36 - 1.49098 298.06 1.48859 1.48837 307.59 - 1.48575 313.17 - 1.48
熔融石英玻璃受激布里渊散射效应实验研究
以自行研制的大能量单纵单横电光调Q激光系统作为抽运源,在小尺寸(2cm×2cm×4cm)的熔融石英玻璃样品中实现了强烈发展的受激布里渊散射(SBS)过程,在工作介质无损伤的情况下,相位共轭波能量高达110mJ,反射率约为60%.还研究了SBS能量反射率与入射角之间的关系,证实了此前提出的“自供种子光(self-Stokes-seeding)”效应的存在.提出了双棒串接的构型,得到了更为高效的SBS过程.
熔融石英坩埚作为新兴的一种特种陶瓷,是熔融石英陶瓷的一种,广泛应用于太阳能光伏行业的多晶硅铸锭环节,由于目前多晶硅锭基本为方形,故熔融石英坩埚目前也俗称石英方坩埚。目前市场的主流产品有G5系列:883mm×883mm×420mm/480mm,G6系列:1040mm×1040mm×500mm,随着行业的迅猛发展,G6石英方坩埚逐步成为市场多晶硅铸锭的主流需求。
石英方坩埚的形状上的发展趋势为:大件、壁薄,对其生产的各个环节提出了更为高的工艺要求,G6石英方坩埚的生产合格率,将是下一个阶段用以衡量各大石英方坩埚生产企业技术研发能力的一个重要依据。目前石英方坩埚的主流生产工艺有:双面吸浆法,单面吸浆法,注凝法。
将精选的优质硅石原料【sio2>99%】,在电弧炉或电阻炉内熔融,熔融温度为1695-1720℃。由于sio2熔体黏度高,在1900℃时为10的7次方Pa·s,无法用浇铸方法成型。冷却后为玻璃体,可作为烧制成 品或不烧制品原料。
产品主要用于精密铸造、玻璃陶瓷、耐火材料及电子电器等行业。
熔融石英的纯度:二氧化硅的含量特一级不得少于 99.99% 、一级不得少于99.96% 、二级不得少于99.95% 、三级不得少于99.7% 、四级不得少于99.6%。
熔融石英一般作为耐火材料、陶瓷原料和玻璃原料、环氧树脂浇注、电子密封料、电光源、医疗、铸造、等行业的主要原料,也是油漆、涂料等化工行业的理想填充料。