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离子喷涂、离子溅射、离子清洗、真空蒸碳、真空蒸金属。 2100433B
钟罩尺寸：内径Φ250mm×高度340mm 玻璃处理室：内径Φ88mm×高度140mm 内径：Φ88mm×高度57mm 试样台尺寸：Φ40mm（最大） 金靶尺寸：Φ38mm 真空度：优于2×10-3Pa 试样运动方式：平面转动、倾斜旋转、倾斜进动 真空系统：分子泵、机械泵组成的高真空机组 真空检测：热偶计、冷规。
象这种情况,一般是电极或者是调压器内部有积炭或有短路现象,它在低电流时还正常,但把电流升到一定的数值时就击穿,就跳断路器,表面上有时发现不了,最好用兆欧表对地摇一摇,测一下它对地绝缘电阻,经常维修对设...
众所周知，传统手机膜采用塑胶设计，手机膜本身有一定的厚度，产生较大的光学折射率，使得手机屏幕光泽十分暗淡，明显会提高眼睛的疲劳度，而且塑料贴膜的表面非常容易滋生细菌，大家在日常生活中无时无刻都在使用手...
很朋友都问这个问题，真空镀膜设备分好几种，看工艺看设备配置，蒸发镀膜机在15-40万，多弧离子镀膜设备在30-120万，磁控溅射镀膜设备在60-100万、工具镀膜设备在70-100万
西门子440变频器在APPLIED FILMS高真空镀膜机锌炉提升装置上的应用
西门子440变频器在APPLIED FILMS高真空镀膜机锌炉提升装置上的应用
介绍了西门子440变频器的基本原理,功能特点以及它在在高真空镀膜机锌炉提升装置上的应用。
塑料基体上真空离子镀TiN膜的微观组织特征
塑料基体上真空离子镀TiN膜的微观组织特征
用电弧离子镀的方法在塑料表面制备了TiN镀膜。采用扫描电子显微镜、X-射线衍射仪和电子散射能谱等分析手段对膜层的形貌、结构、成分及含量进行了表征。实验结果表明,镀膜结构致密、表面有一些白色的、形状不规则的颗粒;TiN膜中含有一定的Ti成分;在塑料表面镀TiN膜层后,体系中存在一定程度的短程有序结构。
真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书
和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。
① 检查真空镀膜机各操作控制开关是否在"关"位置。
② 打开总电源开关，设备送电。
③ 低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。
⑤ 落下钟罩。
⑥ 启动抽真空机械泵。
⑦ 开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。
a.左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
b.低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。
⑧ 当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
⑨ 真空镀膜机开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。
⑩ 低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀（阀杆顺时针旋转）。
⑪ 等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时，开规管灯丝开关。
a. 发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。
b. 左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
⑫ 旋转发射调节钮“4”，使高压真空表“5”内指针指向5。
⑬ 发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向零点位置。
⑭ 旋转零点调节钮“10”，让高压真空表“5”内指针指向0位置。
⑮ 发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向测量位置。
⑯ 旋转标准调节钮“3”，让高压真空表“5”内指针指向10。
⑰ 旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。
⑱ 当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时，开工件旋转钮开关，钟罩内被镀件PVDF膜转动。
⑲ 开蒸发钮开关。把电流分插塞插入蒸发电极分配孔内（设有1、 2、 3、 4孔，可插入任意一孔）。
⑳ 右手旋转右侧调压器手轮，慢慢旋转升压。
a. 从视镜窗口观察钨螺旋加热子的加热温度颜色变化情况。
b. 当钨螺旋加热子颜色变成黄橙色，铝丝开始熔化时，左手操作挡板钮，移开钨螺旋上方挡板。
c. 铝丝全部熔化蒸发，挡板回原位。
d. 右手旋转调压器手轮回零位。第一次蒸镀工作完成。
21. 如果再想蒸镀一次（为了增加电极金属层厚度）：把电流分插塞拨出插入另一个电极分配孔。重复⑳操作动作。
22. 关闭规管灯丝开关。关闭高压阀（逆时针转手柄）。关闭工件旋转。关闭蒸发。旋转机械泵钮至指向扩散泵位置。
23. 低压阀拉出。钟罩充气。充气一段时间，当没有气.声时，升钟罩。
24. 钨螺旋加热子内加铝丝。PVDF薄膜调换另一面向下 （原下面已镀一层铝膜面向上）。紧固在转动圆盘上。
25. 落钟罩。开机械泵。
a. 左下旋钮“1”旋转至指向2区段测量位置。
b. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到6.7Pa时，低压阀推入。
c. 左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
d. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到6.7Pa时，开高压阀。旋钮“1”旋转至指向2区段测量位置。
e. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到指向0.1Pa时，开规管灯丝。
f. 由⑰开始重复操作至⑳ 。
26. PVDF薄膜蒸镀完铝层后，按顺序关闭规管灯丝、高压阀、机械泵、扩散泵。把低压阀拉出。钟罩充气，充气完毕后升钟罩。取出工件，做好钟罩内清理工作。
a. 落下钟罩。
b. 开机械泵，抽3~5min，停机械泵。
c. 切断供电总开关。
d. 1h后再关闭冷却水。操作全部完成。
27. 正常生产中，如遇到突然停电时，要立即切断高真空测量，关闭规管灯丝，高压阀、低压阀拉出。来电后，先让机械泵启动工作3~5min后，再转入正常生产。
1. 开水泵、气源。
2. 开总电源。
3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、预抽，开涡轮分子泵电源、并启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关预抽，开前级泵和高真空阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能打开电子枪电源。
1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。
3. 开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。
1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。
3. 到50以下时，再关维持泵。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
真空镀膜机操作程序
