选择特殊符号

选择搜索类型

热门搜索

首页 > 百科 > 电气百科

等离子一体刻蚀机

等离子一体刻蚀机是一种用于信息科学与系统科学领域的工艺试验仪器,于2015年1月13日启用。

等离子一体刻蚀机基本信息

等离子一体刻蚀机主要功能

薄膜刻蚀。 2100433B

查看详情

等离子一体刻蚀机造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

VR党建一体机

  • ;(5)专业显卡:NVIDIAGTX10605GB显卡;(6)外壳:43寸电容器触摸一体机钣金外壳;(7)触摸屏:43寸;(8)液晶显示屏:43寸;
  • 新华社
  • 13%
  • 广州敬梓信息科技有限公司
  • 2025-07-23
查看价格

智慧党建一体机

  • 智慧党建一体机;含1000册党建图书、200种党建期刊、500集党建视频、500个精品党建专题.此种方案为买断方式,无需每年续费,每年保持20%左右的更新.
  • 新华社
  • 13%
  • 广州敬梓信息科技有限公司
  • 2025-07-23
查看价格

排队叫号显示一体机55寸(网络液晶一体机)

  • 规格:1239.6×713.9×70.2;型号:LED55-MSTV-H
  • 神州视翰
  • 13%
  • 北京神州视翰科技有限公司
  • 2025-07-23
查看价格

教学电视一体机

  • 型号:HD-550S (55寸)
  • 鸿合
  • 13%
  • 湖南银博信息科技发展有限公司
  • 2025-07-23
查看价格

主分控一体机

  • 无线控制
  • 杭州罗莱迪思科技股份有限公司
  • 13%
  • 罗莱迪思照明技术(成都)有限公司
  • 2025-07-23
查看价格

红外高清球

  • 广东2025年1季度信息价
  • 电网工程
查看价格

红外高清球

  • 深圳市2024年3季度信息价
  • 电网工程
查看价格

红外高清球

  • 深圳市2024年2季度信息价
  • 电网工程
查看价格

红外高清球

  • 广东2024年1季度信息价
  • 电网工程
查看价格

红外高清球

  • 深圳市2023年4季度信息价
  • 电网工程
查看价格

UV光氧+等离子一体机

  • (1)型式:卧式(2)设置场所:室内外皆可放置(3)本设计耐压:800mmAq(4)主材质:Q235B×2T(5)本尺寸(mm)L3000×W1400×H1400mm(6)双波段灯管:32组灯管(7)前置粉尘过滤器(8)等离子模块2
  • 4
  • 1
  • 不限
  • 高档
  • 含税费 | 不含运费
  • 2019-06-19
查看价格

等离子UV一体机

  • 型号:ZZSWT-200规格:2470×1200×1800(mm)材质:不锈钢304水泵功率:3(KW)处理风量:20000(m3/h)进出风口尺寸:Ф800(mm)20组紫外线光氧发生器,20等离子管,组4组控制箱,两组空气均风净化器(组空气均风过滤,二氧化钛光触媒)
  • 1
  • 1
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2021-06-08
查看价格

一体化光等离子发生装置

  • 1.电器特性:单相 / 220V / 50Hz2.安装方式:离子发生器箱3.净化成分及效率:(1)氨 、硫化氢、甲硫醇、甲硫醚等有毒有害气≥80%;(2)臭气、异味≥90%;(3)苯、甲醛、多环
  • 1
  • 1
  • 中高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2020-05-25
查看价格

等离子除臭一体化设备

  • 处理风量1000m/h,N=4.5kW 3
  • 1
  • 1
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2023-05-29
查看价格

一体化光等离子发生装置

  • 1.电器特性:单相 / 220V / 50Hz2.安装方式:离子发生器箱3.净化成分及效率:(1)氨 、硫化氢、甲硫醇、甲硫醚等有毒有害气≥80%;(2)臭气、异味≥90%;(3)苯、甲醛、多环
  • 1
  • 1
  • 中高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2020-05-25
查看价格

等离子一体刻蚀机技术指标

可刻蚀各种尺寸形状的样品, 最大面积达1000 cm2。

查看详情

等离子一体刻蚀机常见问题

查看详情
TEGAL421等离子刻蚀机射频电源的维修及调整 TEGAL421等离子刻蚀机射频电源的维修及调整

TEGAL421等离子刻蚀机射频电源的维修及调整

格式:pdf

大小:300KB

页数: 3页

TEGAL421 等离子刻蚀机射频电源的维 修及调整 TEGAL421 等离子刻蚀机射频电源的电路图如下: 各部分电路的作用, DC Power Supply Board 板是一块电源板提供射频源 工作所需的各路电源,包括电子管工作的高低压。 OSICLACTOR Board 板提供 射频源的激励信号, Q1是震荡管,Q4是推动管,Q3,Q2组成脉宽功率调节电路。 V1和 V2是两个输出电子管,提供所需的射频功率。其中 Lv 是低压变压器,机 器一通电,该变压器就被通电。而 BV 是高压变压器,只有在需要射频输出时才 被通电。 Power Coupler 是入射功率和反射功率检测模块。主机背面的电位器 R5 和 R6 用于矫正入射和反射功率的偏差。 Test Port 测试端口用于检测射频电 源的工作参数。 射频电源的调整 射频电源调整的步骤如下: 1. 关闭交流电源。 2. 移除射频电源

离子束减薄对金属玻璃电镜样品的非均匀刻蚀 离子束减薄对金属玻璃电镜样品的非均匀刻蚀

离子束减薄对金属玻璃电镜样品的非均匀刻蚀

格式:pdf

大小:453KB

页数: 5页

本文利用透射电子显微镜和原子力显微镜研究了金属玻璃样品在离子束作用后形成的厚度起伏特征。采用高分辨透射电镜和能谱分析结果表明金属玻璃样品中没有发生明显的结构和成分的变化。利用离子束与样品表面作用过程的粗化机理解释了出现这种特征厚度起伏的原因。这种厚度起伏是由材料本身性质和实验条件共同决定的。通过研究离子束与样品的作用方式,有利于确定合适的透射电镜样品制备方法,有助于利用透射电镜研究非晶样品的微观结构。

等离子刻蚀机湿法刻蚀相对于等离子刻蚀的缺点

1. 硅片水平运行,机片高(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);

2. 下料吸笔易污染硅片(等离子刻蚀去PSG后甩干);

3. 传动滚抽易变形(PVDF,PP材质且水平放置易变形);

4. 成本高(化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加)。

此外,有些等离子刻蚀机,如SCE等离子刻蚀机还具备"绿色"优势:无氟氯化碳和污水、操作和环境安全、排除有毒和腐蚀性的液体。SCE等离子刻蚀机支持以下四种平面等离子体处理模式:

直接模式--基片可以直接放置在电极托架或是底座托架上,以获得最大的平面刻蚀效果。

定向模式--需要非等向性刻蚀(anisotropic etching)的基片可以放置在特制的平面托架上。

下游模式--基片可以放置在不带电托架上,以便取得微小的等离子体效果。

定制模式--当平面刻蚀配置不过理想时,特制的电极配置可以提供。

查看详情

等离子刻蚀机等离子刻蚀的测量与控制

由于等离子刻蚀工艺中的过程变量,如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗,等等,不易测量,

因此业界常用的测量方法有

虚拟测量(Virtual Metrology)

光谱测量(Optical emission spectroscopy)

等离子阻抗监控(Plasma impedance monitoring)

终端探测(end-point detection)

远程耦合传感(remote-coupled sensing)

等离子刻蚀过程的常见控制方法有

run-to-run 控制(R2R)

模型预测控制(MPC)

人工神经网络控制

等离子刻蚀检验操作及判断

1. 确认万用表工作正常,量程置于200mV。

2.冷探针连接电压表的正电极,热探针与电压表的负极相连。

3.用冷、热探针接触硅片一个边沿不相连的两个点,电压表显示这两点间的电压为正值,说明导电类型为P 型,刻蚀合格。相同的方法检测另外三个边沿的导电类型是否为P型。

4.如果经过检验,任何一个边沿没有刻蚀合格,则这一批硅片需要重新装片,进行刻蚀。

查看详情

等离子刻蚀机缺点

1、 硅片水平运行,机片高(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);

2、下料吸笔易污染硅片(等离子刻蚀去PSG后甩干);

3、传动滚轴易变形(PVDF,PP材质且水平放置易变形);

4、成本高(化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加)。

此外,有些等离子刻蚀机,如SCE等离子刻蚀机还具备“绿色”优势:无氟氯化碳和污水、操作和环境安全、排除有毒和腐蚀性的液体。SCE等离子刻蚀机支持以下四种平面等离子体处理模式:

直接模式——基片可以直接放置在电极托架或是底座托架上,以获得最大的平面刻蚀效果。

定向模式——需要非等向性刻蚀(anisotropic etching)的基片可以放置在特制的平面托架上。

下游模式——基片可以放置在不带电托架上,以便取得微小的等离子体效果。

定制模式——当平面刻蚀配置不过理想时,特制的电极配置可以提供。

查看详情

相关推荐

立即注册
免费服务热线: 400-823-1298